Китайские 7 нанометров
Автор: Михаил ЗарубинПару недель назад писал про российские литографические машины с тех процессом 90 нм.
Сегодня про Китай.
Итак, в конце августа, прям почти на 1 сентября Китай запустил серийное производство собственных DUV-литографов!
Осуществлена ориентация на 28 нм, за счёт многократной экспозиции, где теоретически достижим уровень производства чипов с техпроцессом 7 нм (раньше я писал, что эти заявляемые в оборудовании 7 нм это не реальный размер элементов, а... маркетинг короче это).
Пишут, что по производительности, точности и надёжности китайские системы пока уступает современным машинам ASML (хотя при этом акции ASML сразу же обвалились на 4,6–6,9%, а торги вынужденно приостанавливались).
Удивляют и уже запланированные объемы производства установок:
2026 год — около 5 установок для SMIC, Hua Hong и CXMT.
2027 год — объём китайцы планируют поднять до 20 машин!
Нет, этот китайский прорыв пока ещё не закрывает отставание в EUV (нужном для технологий меньше 5 нм), но впервые даёт Китаю собственный инструмент для обхода экспортных ограничений США и Нидерландов в критически важном сегменте 28–7 нм. Точнее плюнуть на них. Ну хотя бы почти...
Короче, слов у меня нет... Думаю, в ближайшие лет пять самый сейчас навороченный айфон будет стоить не дороже сотни баксов, ой, юаней...